真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中,用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度,使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能,从而使大量分子或原子蒸发或升华,并直接沉淀在基片上形成薄膜。离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶,使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面,形成所需要的薄膜。
真空蒸发镀膜常用的是电阻加热法,其优点是加热源的结构简单,造价低廉,操作方便;缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热,电子束的动能变成热能,使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源,但由于大功率激光器的造价很高,目前只能在少数研究性实验室中使用。
溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面(靶),使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态,常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子,离子或中性粒子,因为离子在电场下易于加速获得所需要动能,因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上,即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电;三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电;射频溅射是利用射频辉光放电;磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比,有许多优点。如任何物质均可以溅射,尤其是高熔点,低蒸气压的元素和化合物;溅射膜与基板之间的附着性好;薄膜密度高;膜厚可控制和重复性好等。缺点是设备比较复杂,需要高压装置。此外,将蒸发法与溅射法相结合,即为离子镀。这种方法的优点是得到的膜与基板间有极强的附着力,有较高的沉积速率,膜的密度高。
彩色镀铝膜是一种真空吸塑膜,用于各类面板的表层包装,所以又被称为装饰膜、附胶膜,应用于建材、高中档包装、吹气、手袋、箱包、文具、雨衣、广告、标签及、医l疗(如血压带/辅助教学器材/识别带)等诸多行业。
其中建材行业占的比重比较大,为60%,其次是包装行业,还有其他若干小范围应用的行业。我司可将PVC膜涂色镀铝后可使产品在装饰性效果中更亮丽吸引。
产品优点:
柔软,耐冲性高,伸长率大,拉伸性优。透明性能优良,防水透气。
本公司是集研发、生产、经营、销售为一体的个体经营,凭着雄厚的技术力量,精良的加工设备,完善的检测手段,使镀铝膜各项质量指标一直处于领l先地位。本着“锐意进取,精益求精”的理念,严格把关,不断,以的管理可靠的品质和周到的服务赢得广大需求者的青睐。华福包装将以一颗挚诚的心,期待与您的长期合作。
镀铝膜是采用特殊工艺在塑料薄膜表面镀上一层极薄的金属铝而形成的一种复合软包装材料,其中常用的加工方法当数真空镀铝法,就是在高真空状态下通过高温将金属铝融化蒸发,使铝的蒸汽沉淀堆积到塑料薄膜表面上,从而使塑料薄膜表面具有金属光泽。由于它既具有塑料薄膜的特性,又具有金属的特性,是一种廉价美观、性能优良、实用性强的包装材料。
您好,欢迎莅临华福包装,欢迎咨询...